Workshop 5:
Beschichtungen für den optischen Gerätebau
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21. und 22. Oktober 2009 im RAMADA Hotel Dresden
Mittwoch, 21. Oktober 2009
| 14:00 Uhr | Anforderungen an optische Schichten: Stand der Technik in der Produktion H. Pulker, Universität Innsbruck, Innsbruck |
| 14:20 Uhr | Die Rolle des Plasmas bei der Optikbeschichtung N. Kaiser, Fraunhofer IOF, Jena |
| 14:40 Uhr | Schichtstrukturen plasmagestützter Beschichtungsprozesse - Nanoskopische Einblicke J. Ebert, W. Ebert, Laseroptik GmbH, Garbsen |
| 15:00 Uhr | Breitband-Entspiegelung von Glas- und Kunststoffoptik U. Schulz, Fraunhofer IOF, Jena |
| 15:20 Uhr | Kaffeepause |
| 15:50 Uhr | Beschichtungen für die EUV-Lithografie M. Perske, H. Pauer, T. Feigl, S. Yulin, Fraunhofer IOF, Jena |
| 16:10 Uhr | Einstieg ins Optische Monitoring: ein Erfahrungsbericht J. Terhürne, bte Bedampfungstechnik GmbH, Elsoff |
| 16:30 Uhr | Helios und optisches Monitoring M. Scherer, A. Zöller, Leybold Optics GmbH, Alzenau |
| 16:50 Uhr | Virtuelle Beschichtungsläufe zur Design- und Prozessführungsoptimierung St. Wilbrandt, Fraunhofer IOF, Jena |
| 17:10 Uhr | Oxidische nanoporöse Schichten mit ausbalancierten optischen und mechanischen Eigenschaften O. Stenzel, Fraunhofer IOF, Jen |
Donnerstag, 22. Oktober 2009
| 08:30 Uhr | Optische Eigenschaften mikro- und nanostrukturierter Kunstoffoberflächen H. Lauth, Fresnel Optics GmbH, Apolda |
| 08:50 Uhr |
Feinoptik auf Metall, Kunststoff, Glas - ein Terzett für industrielle Serienbauteile O. Treichel, S1 Optics GmbH, Nürtingen |
| 09:10 Uhr | Abscheidung von anorganischen und Hybridschichten für optische Anwendungen mittels Magnetronsputtern und Magnetron-PECVD P. Frach, D. Glöß, H. Bartzsch, K. Täschner, J. Liebig, E. Schultheiß, Fraunhofer FEP, Dresden |
| 09:30 Uhr | Beschichtung von Kunststoffen in der Serienfertigung S. Gaumitz, T. Bauer, JENOPTIK Polymer Systems GmbH, Triptis |
| 09:50 Uhr | Herstellung organischer LED für optoelektronische Anwendungen K. Fehse, Ch. May, Fraunhofer IPMS, Dresden |
| 10:10 Uhr | Kaffeepause |
| 10:40 Uhr | Fortschritte bei Plasma-Ionen gestützten Beschichtungsprozessen H. Hagedorn, Leybold Optics GmbH, Alzenau |
| 11:00 Uhr |
Strukturierbare optische Schichten auf der Basis von Chrom M. Schürmann, W. Stöckl, N. Kaiser, Fraunhofer IOF, Jena |
| 11:20 Uhr |
Innovative Bearbeitungs- und Beschichtungsverfahren für Optiken im kurzwelligen Bereich P. Gawlitza, A. Leson, S. Braun, M. Menzel, Fraunhofer IWS, Dresden |
| 11:40 Uhr |
Hochleistungs-Beschichtungen für die Laserentwicklung und Messtechnik St. Günster, Laser Zentrum Hannover e.V., Hannover |
| 12:00 Uhr | Selbstblockende, rein-dielektrische NIR-Bandpassfilter für die Fernerkundung der Erde U. Schallenberg, mso jena Mikroschichtoptik GmbH, Jena |
| 12:20 Uhr |
Mittagspause |
| 13:30 Uhr | Neue Entwicklungen in der Magnetron-Sputtertechnik für optische Schichten: Hochionisierte Plasmen et al. M. Vergöhl, Fraunhofer IST, Braunschweig |
| 13:50 Uhr |
Strukturierte optische Filterbeschichtungen O. Züger, Optics Balzers AG, Balzers |
| 14:10 Uhr |
Dielektrische Targetmaterialien (Mischtargets) in Magnetron Sputtertechnologien für optische Dünnschichtsysteme: Prozesstechnologie, Schichteigenschaften, Nb2O5, Ta2O5 G. Strauss, St. Schlichtherle, PhysTech Coating Technology GmbH, Pflach |
| 14:40 Uhr | Ultra-precise Ion Beam Figuring (IBF) of optical Devices E. Loos, ROTH & RAU AG, Hohenstein-Ernstthal |
| 15:10 Uhr |
RF-Plasmaunterstütze Aufdampfen mittels Taurion-Anlage W. Schwärzler, PROVAC AG, Balzers |
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